硒化物靶材-合金和靶材-铋粒|碲粉|铟箔|低熔点镓铟合金_三氧化二铋_高纯金属锗-长沙盛特新材料有限公司

硒化物靶材

铋锭
分子式: Cu2Se,Bi2Se3,In2Se3,Ga2Se3
CAS号: 7446-08-4
EINECS号: 231-957-4
纯度: 99.99%min
尺寸: 50mm-300mm
熔点:  217°C
沸点: 684.9°C
交货时间: 7-10天

供应能力: 200KG /月


EMAILL:santech@santechchem.com
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硒化物靶材介绍


硒化物包括硒化铟,硒化镉,硒化锌,硒化铋,硒化锗,硒化钼等。硒元素沸点只有684.9摄氏度,在生产硒化合物和靶材中,因其他金属元素熔点多高于硒的沸点,以及靶材工艺中的高温热压等工艺下,硒元素极易挥发,为了精确控制硒化合物中的硒含量和化合物性能,是所有生产硒化合物材料企业必须解决的技术难题。盛特新材专业生产高质量的硒化物材料和靶材,主要应用于磁控溅射,半导体掺杂,化学气相沉积(CVD)和物理气相沉积(PVD)显示器和光学应用。硒化物靶材主要包括硒化铋Bi2Se3,硒碲化铋BiSeTe,硒化镉CdSe,硒碲化镉CdTeSe,硒化铜镓CuGaSe2,硒化铜CuSe,二硒化铜CuSe2,铜铟镓硒CuIn0.7Ga0.3Se2,硒化铜铟CuInSe2,硒化铜锌锡CuZnSnSe,硒砷化镓GaAsSe, 三硒化二镓Ga2Se3,一 硒化锗GeSe,二硒化锗GeSe2,三硒化二锗Ge2Se3,锗碲硒GeTeSe,一硒化铟InSe,三硒化二铟In2Se3,二硒化钼MoSe2,三硒化二锑Sb2Se3,硒化锌ZnSe等。

硒化物靶材应用

硒化物靶材如硒化物包括硒化铟,硒化镉,硒化锌,硒化铋,硒化锗,硒化钼等,主要用于光电材料的磁控溅射,蒸发镀膜,半导体材料掺杂等。

硒化物靶材优势

● 纯度高,可达99.999%,比例精准,靶材致密度高;
● 质量稳定,表面光滑平整;
● 可以定制不同的尺寸和形状。


 
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